光刻机也在超精密加工技术里，何星舟去年解锁了超精密加工的切削技术，研发出了龙腾系列机床。
这次得解锁“超精密特种加工技术”，需要能量点十万点。
“制造光刻机，还需要光刻胶。”光刻胶又叫光致抗蚀剂，是一种耐蚀剂刻薄膜材料，半导体加工时需要这种材料。
光刻胶这东西，也在白鹰等的列表中。
“紫外光刻胶，适用于436纳米-365纳米光刻技术，解锁需要一万单位能源。”
“深紫外光刻胶，适用于248纳米-193纳米光刻，解锁需要三万单位能源。”
“极紫外光刻胶，常用于11纳米-14纳米光刻，解锁需要五万单位能源。”
“辐射线光刻胶，用于更高分辨率光刻，需解锁上述所有光刻胶后方能解锁。”
何星舟要用到的，便是极紫外光刻胶，目前世界上最先进的光刻机，也就是极紫外光刻机，它可以制造出3纳米制程的硅基芯片。
又是八万单位能源，何星舟将光刻胶材料技术也解锁掉。
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